[发明专利]辐射系统在审
| 申请号： | 202080026115.1 | 申请日： | 2020-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN113661788A | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | G·丁格曼斯;科尔马·欧戈尔曼;R·哈佛科特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种辐射系统，被配置为产生辐射并且包括液滴发生器(3)、激光系统和控制系统，液滴发生器(3)被配置为产生朝向等离子体形成区域行进的燃料液滴，激光系统操作以生成预脉冲(PP)和主脉冲(MP)，其中预脉冲被配置为调节液滴以接收主脉冲，并且其中主脉冲被配置为将经调节液滴转换为产生辐射的等离子体，控制系统被配置为控制在横向于预脉冲的传播方向的平面中预脉冲与液滴之间的空间偏移，其中控制系统被配置为调节空间偏移以最大化在横向于主脉冲的传播方向的平面中经调节液滴的速度变化。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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