[发明专利]用于确定针对光刻设备的校正的方法在审
| 申请号： | 202080029533.6 | 申请日： | 2020-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN113711128A | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | R·沃克曼;D·F·S·德克尔;西蒙·飞利浦·斯宾塞·哈斯廷斯;J·T·杰巴兹;S·阿尔·拉赫曼;D·哈诺坦耶;林晨希;程亚娜 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种用于确定针对在对衬底进行图案化的过程中所使用的设备的校正的方法，所述方法包括：获得与待处理的衬底的特征标识的处理历史和/或相似性相关联的分组结构；获得与所述分组结构内的多个分组相关联的量测数据，其中所述量测数据在所述多个分组之间是相关的；和通过将模型应用于所述量测数据来确定针对来自所述多个分组的一分组的校正，所述模型至少包括共同校正分量和特定于分组的校正分量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 针对 光刻 设备 校正 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202080029533.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
