[发明专利]包含杂芴基团的化合物在审
| 申请号： | 202080032062.4 | 申请日： | 2020-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN113853370A | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 埃莱娜·嘉兰;延斯·武特克;利迪亚·马林 | 申请（专利权）人： | 诺瓦尔德股份有限公司 |
| 主分类号： | C07D221/16 | 分类号： | C07D221/16 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王潜;郭国清 |
| 地址： | 德国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种化合物，并涉及一种包含该化合物的有机半导体层及所述有机半导体层的制造方法，所述有机半导体层适合用作电子器件的有机半导体层，其中所述化合物包含杂芴基团并用式1表示。 |
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| 搜索关键词： | 包含 基团 化合物 | ||
【主权项】：
暂无信息
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