[发明专利]用于形成成核抑制涂层的材料和结合所述成核抑制涂层的装置有效
| 申请号： | 202080032836.3 | 申请日： | 2020-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN113785411B | 公开（公告）日： | 2023-04-11 |
| 发明（设计）人： | M·海兰德;S·N·格宁;Z·王 | 申请（专利权）人： | OTI照明公司 |
| 主分类号： | H10K71/60 | 分类号： | H10K71/60;H10K59/12;C09D5/00;C09D7/63;G02B1/14;G09F9/33 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 王琳;姚开丽 |
| 地址： | 加拿大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
一种光电子装置，其包括：成核抑制涂层(NIC)，所述NIC安置在所述装置的在其横向方面的第一部中的表面上；以及导电涂层，所述导电涂层安置在所述装置的在其所述横向方面的第二部中的表面上；其中在所述第一部中，所述导电涂层针对所述NIC的初始粘附概率显著小于针对所述表面的初始概率，使得所述第一部基本上缺乏所述导电涂层；并且其中所述NIC包括具有如下式(I)所展示的式等式的化合物。 |
||
| 搜索关键词： | 用于 形成 成核 抑制 涂层 材料 结合 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于OTI照明公司，未经OTI照明公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202080032836.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电工材料用含氟环氧树脂及其制造方法
- 下一篇：具有切断阀的物料输送设备
