[发明专利]光源装置、光学装置在审
| 申请号： | 202080033341.2 | 申请日： | 2020-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN113795745A | 公开（公告）日： | 2021-12-14 |
| 发明（设计）人： | 加贺谷真仁;酒井基裕 | 申请（专利权）人： | 河北光源解决方案株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/01 | 分类号： | G01N21/01;G01N21/27 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本宫城*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种无需进行复杂的光轴调整就能够以简单的结构，将来自第1光源的光与来自第2光源的窄频带光的合波光射出至被照射物的光源装置及具备该光源装置的光学装置。光源装置具有第1光源及能够将频带比基于第1光源的光的波长频带窄的光照射至第1光源的第2光源，第1光源构成为将来自该第1光源的光与在第1光源的表面扩散反射的来自第2光源的光的合波光射出至被照射物。并且，第1光源配置于穿过被照射物的光轴上。并且，优选第1光源是卤素灯或半导体光源等且第2光源是半导体光源。光学装置具有上述光源装置及使用来自光源装置的合波光进行被照射物的光学测定的光学测定部。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 装置 光学 | ||
【主权项】：
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