[发明专利]具有辅助栅极结构的功率半导体器件在审

专利信息
申请号: 202080034026.1 申请日: 2020-05-07
公开(公告)号: CN113826205A 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 弗洛林·乌德雷亚;马丁·阿诺德;洛伊佐斯·埃夫蒂米乌;焦尔贾·隆戈巴尔迪;保罗·瑞安 申请(专利权)人: 剑桥企业有限公司
主分类号: H01L27/085 分类号: H01L27/085;H01L29/778;H01L21/335;H01L21/8252;H02M7/5387;H03K17/0814;H03K17/13;H03K17/30;H03K17/687
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 倪斌
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及GaN技术中的功率半导体器件。本公开提出集成的辅助(双)栅极端子和下拉网络以实现具有高于2V的阈值电压、低栅极漏电流和增强的开关性能的常关(E模式)GaN晶体管。高阈值电压GaN晶体管具有高压有源GaN器件和低压辅助GaN器件,其中,高压GaN器件具有与集成的辅助低压GaN的源极(12)连接的栅极(10)晶体管和作为外部高压漏极端子(9)的漏极以及作为外部源极端子(8)的源极,而低压辅助GaN晶体管具有连接至漏极(第二辅助电极16)的用作外部栅极端子的栅极(第一辅助电极15)。在实施例中,用于关断高阈值电压GaN晶体管的下拉网络由附加的辅助低压GaN晶体管(34)以及与低压辅助GaN晶体管并联或串联连接的电阻元件形成。
搜索关键词: 具有 辅助 栅极 结构 功率 半导体器件
【主权项】:
暂无信息
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