[发明专利]III-氮化物器件的集成设计在审

专利信息
申请号: 202080036199.7 申请日: 2020-03-20
公开(公告)号: CN113826206A 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 吴毅锋;约翰·柯克·格里特尔斯 申请(专利权)人: 创世舫科技有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L29/778;H01L25/06;H01L29/20;H01L29/417;H01L25/07;H01L27/06
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 李兰;孙志湧
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体器件包括III‑N器件和场效应晶体管(FET)。III‑N器件包括III‑N材料结构的第一侧上的衬底,III‑N材料结构的与衬底相对的侧上的第一栅极、第一源极和第一漏极。FET包括第二半导体材料结构、第二栅极、第二源极和第二漏极,并且第二源极在第二半导体材料结构的与第二漏极相对的侧上。FET的第二漏极直接接触且电连接到III‑N器件的第一源极,且通孔穿过暴露出衬底的顶表面的部分的III‑N材料结构的部分形成,且第一栅极经由通孔电连接到衬底。
搜索关键词: iii 氮化物 器件 集成 设计
【主权项】:
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