[发明专利]呋喃并咪唑并吡啶类化合物的合成方法、呋喃并咪唑并吡啶类化合物的晶型及其盐的晶型在审
申请号: | 202080036439.3 | 申请日: | 2020-04-30 |
公开(公告)号: | CN113906035A | 公开(公告)日: | 2022-01-07 |
发明(设计)人: | 梁从新;王来宝;刘海辉 | 申请(专利权)人: | 杭州高光制药有限公司 |
主分类号: | C07D491/147 | 分类号: | C07D491/147;A61P29/00;A61P35/00;A61P37/00;A61K31/415;A61K31/437 |
代理公司: | 北京信诺创成知识产权代理有限公司 11728 | 代理人: | 尹吉伟 |
地址: | 310018 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 提供了一种作为选择性Jak1/TYK2激酶抑制剂的化合物2‑[(2R,5S)‑5‑[2‑[(R)‑1‑羟乙基]呋喃并[3,2‑b]咪唑并[4,5‑d]吡啶‑1‑基]四氢吡喃‑2‑基]乙腈的合成方法,该化合物以7‑氯‑6‑硝基呋喃并[3,2‑b]吡啶为起始原料,经亲核取代、钯炭还原、环合反应制备得到。该合成方法反应条件温和、产品收率高、纯度高、适合工业化生产。还提供了该化合物的晶型、其盐的晶型以及它们的制备方法,所述化合物的晶型、其盐的晶型具有良好的理化性质,适合药物开发。 | ||
搜索关键词: | 呋喃 咪唑 吡啶 化合物 合成 方法 及其 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州高光制药有限公司,未经杭州高光制药有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202080036439.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:具有包含经修饰半胱氨酸的氧化还原酶基序的免疫原性肽
- 下一篇:护肤面膜