[发明专利]膜形成用组合物在审

专利信息
申请号: 202080039710.9 申请日: 2020-03-24
公开(公告)号: CN113891906A 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 柴山亘;武田谕;志垣修平;石桥谦;加藤宏大;中岛诚 申请(专利权)人: 日产化学株式会社
主分类号: C08G77/26 分类号: C08G77/26;G03F7/11;C09D5/00;C08L83/04;C09D183/06;C09D183/08
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 孙丽梅;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题是提供适合作为可以形成兼具对EUV抗蚀剂的良好的密合性、与良好的蚀刻加工性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物的、膜形成用组合物。解决手段是一种膜形成用组合物,其特征在于,其包含选自水解性硅烷化合物、其水解物和其水解缩合物中的至少1种,以及溶剂,上述水解性硅烷化合物包含分子内具有氰基的下述式(1)所示的水解性硅烷。(在式(1)中,R1为与硅原子结合的基团,并且表示包含氰基的有机基,R2为通过Si‑C键而与硅原子结合的基团,并且彼此独立地表示可以被取代的烷基等,R3为与硅原子结合的基团或原子,并且彼此独立地表示羟基、烷氧基、芳烷基氧基、酰氧基或卤原子,a表示1的整数,b表示0~2的整数,a+b表示1~3的整数。)R1aR2bSi(R3)4‑(a+b)(1)。
搜索关键词: 形成 组合
【主权项】:
暂无信息
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