[发明专利]校准系统及描绘装置在审
| 申请号： | 202080040472.3 | 申请日： | 2020-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN113906349A | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | 菅原雅史 | 申请（专利权）人： | 英视股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/24 | 分类号： | G03F7/24 |
| 代理公司： | 北京天达共和律师事务所 11798 | 代理人： | 关刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够在对于细长片状的基板形成连续的图案的情况下，随时进行被照射到基板的曝光用的光束的校准的校准系统等。校准系统包括：光学系统，其被设置为可相对于从曝光头射出并入射到基板的曝光面的光束的光路进行插拔，并在被插入到该光路将光束向与该光路不同的方向引导；移动机构，其将该光学系统相对于上述光路进行插拔；以及光传感器，其具有在光学系统被插入到上述光路时接收由光学系统引导的光束的受光面，对入射到该受光面的光束在该受光面中的照射位置及照射强度进行检测，并输出检测信号。 | ||
| 搜索关键词： | 校准 系统 描绘 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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