[发明专利]变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法在审
| 申请号： | 202080042377.7 | 申请日： | 2020-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN114008508A | 公开（公告）日： | 2022-02-01 |
| 发明（设计）人： | 町田幸介 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B15/20 | 分类号： | G02B15/20;G02B13/18 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 季莹;方应星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 变倍光学系统(ZL(1))具备多个透镜组(G1～G7)。在进行变倍时，相邻的各透镜组之间的间隔变化。多个透镜组包括：第1对焦透镜组(G5)，在进行对焦时移动；以及第2对焦透镜组(G6)，相比第1对焦透镜组配置于像面侧，在进行对焦时以与第1对焦透镜组不同的轨迹移动。第1对焦透镜组和第2对焦透镜组都具有负的光焦度。第1对焦透镜组或第2对焦透镜组构成为，包括至少一个具有正的光焦度的透镜，且满足以下的条件式：1.40fFP/(‑fFN)3.50其中，fFP：第1对焦透镜组内或第2对焦透镜组内的正的光焦度最强的透镜的焦距，fFN：第1对焦透镜组内或第2对焦透镜组内的负的光焦度最强的透镜的焦距。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 光学 设备 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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