[发明专利]使用反馈用于校正体积断层扫描打印机中的三维物体的系统和方法在审

专利信息
申请号: 202080043975.6 申请日: 2020-05-25
公开(公告)号: CN113993689A 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: P·德洛;D·洛特利亚;C·莫泽 申请(专利权)人: 洛桑联邦理工学院
主分类号: B29C64/129 分类号: B29C64/129;B29C64/241;B29C64/393;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y50/02
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 郭广迅;李渤
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于由期望的3D制品的模拟断层扫描二维反投影(9)监测在断层扫描增材制造系统中正在形成的三维物体(5)的生成的方法,其包括以下步骤:‑用由所述二维反投影(9)以多个角度产生的二维光图案的光束(2a)照射包含光响应材料(103)的容器(3),优选地通过容器(3)的旋转进行,以便在容器(3)中形成物体(5);‑用围绕物体(5)正在其中形成的容器(3)设置的成像系统(6、7、8)捕获通过体积打印正在形成的所述物体(5)的图像;‑由所述图像确定物体已经形成的形状或程度。
搜索关键词: 使用 反馈 用于 校正 体积 断层 扫描 打印机 中的 三维 物体 系统 方法
【主权项】:
暂无信息
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