[发明专利]溅镀靶材在审
| 申请号： | 202080050071.6 | 申请日： | 2020-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN114127329A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 丸子智弘;鈴木雄;大友将平;中村紘暢 | 申请（专利权）人： | 株式会社古屋金属 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06;B22F5/12;B22F5/00;C23C14/16 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 林彦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种导电性得到提高，例如在使用DC溅镀装置成膜时使生产性提高的溅镀靶材。本发明的溅镀靶材的特征在于：在铝母相中以10～70mol％的含量存在以下材料或相，即，(1)包含铝且还包含稀土类元素及钛族元素中任一种或两种的材料或相、或者(2)包含稀土类元素及钛族元素中任一种或两种的材料或相。 | ||
| 搜索关键词： | 溅镀靶材 | ||
【主权项】：
暂无信息
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