[发明专利]叠对测量目标设计有效
| 申请号： | 202080052814.3 | 申请日： | 2020-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN114144730B | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | 宏·萧 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/86;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 装置区域包含至少第一光致抗蚀剂层及第二光致抗蚀剂层。第一层计量目标定位于基垫的所述第一层的各侧中的一者的边缘处。所述第一层计量目标具有小于装置间距的松弛间距。可同时获得次级电子图像及背向散射电子图像。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 目标 设计 | ||
【主权项】：
暂无信息
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