[发明专利]再扫描显微镜系统和方法在审

专利信息
申请号: 202080053502.4 申请日: 2020-06-26
公开(公告)号: CN114144715A 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: E·M·M·曼德斯 申请(专利权)人: 共聚焦荷兰有限责任公司
主分类号: G02B21/00 分类号: G02B21/00
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 郭万方
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种用于形成样品的图像的再扫描显微镜。该系统包括照明光学系统,用于在样品处引导和可选地聚焦照明光,由此在样品处提供照明光斑。照明光斑导致来自样品的发射光。显微镜系统还包括用于将发射光的至少一部分聚焦到成像系统的成像平面上由此在成像平面上导致发射光斑的检测光学系统。显微镜系统还包括可旋转元件,用于在旋转时在样品上和/或穿过样品移动照明光斑并且同时在成像系统的所述成像平面上移动发射光斑。可旋转元件包括至少两个反射表面。
搜索关键词: 扫描 显微镜 系统 方法
【主权项】:
暂无信息
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