[发明专利]清洁边缘环凹部的系统和方法在审
| 申请号： | 202080055895.2 | 申请日： | 2020-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN114342037A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 艾利克·哈德森;斯科特·布里格斯;约翰·霍兰德;阿列克谢·马拉赫塔诺夫;菲力克斯·莱布·科扎克维奇;肯尼思·卢凯西 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;张静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文描述了用于清洁边缘环凹部的系统和方法。所述方法中的一种包含：将一或多种处理气体提供至等离子体室、将低频(LF)射频(RF)功率供给至邻近等离子体室的卡盘定位的边缘环。LF RF功率在将一或多种处理气体供给至等离子体室时供给，以维持等离子体室内的等离子体。供给LF RF功率增加靠近边缘环凹部的等离子体离子的能量，以去除边缘环凹部内的残余物。LF RF功率是在等离子体室内未处理衬底的时间段期间内供给。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 边缘 环凹部 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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