[发明专利]感光化射线性或放射线性树脂组合物、图案形成方法、抗蚀剂膜及电子器件的制造方法在审
| 申请号： | 202080058597.9 | 申请日： | 2020-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN114270264A | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 小岛雅史;牛山爱菜;后藤研由;白川三千纮;加藤启太;丸茂和博;冈宏哲 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/038;G03F7/004;G03F7/09;G03F7/00;C07C311/51;C07C309/06;C07C309/17;C07C309/12;C07C311/14;C07C311/48;C07C381/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种即使在长期保存的情况下也可得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。上述感光化射线性或放射线性树脂组合物含有酸分解性树脂及特定化合物，特定化合物具有2个以上的阳离子部位及与阳离子部位相同数量的阴离子部位，阳离子部位中的至少1个具有由通式(I)表示的基团。 | ||
| 搜索关键词： | 感光 射线 放射 线性 树脂 组合 图案 形成 方法 抗蚀剂膜 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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