[发明专利]声学膜阵列的优化在审

专利信息
申请号: 202080060498.4 申请日: 2020-08-27
公开(公告)号: CN114342417A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 希尔克·布勒·阿克曼;保罗·路易斯·玛莉亚·约瑟夫·万妮尔;阿尔诺·威廉·弗雷德里克·佛尔克 申请(专利权)人: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
主分类号: H04R7/12 分类号: H04R7/12;H04R7/14;H04R9/02
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 孟媛;李维凤
地址: 荷兰*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种声学装置(100),该声学装置包括形成在箔(10)上的声学膜(1,2,3,4)的阵列。声学膜(1,2,3,4)中的每一个被配置为在声学膜(1,2,3,4)的谐振频率(Fr)下进行振动,以产生相应的声波(W1,W2,W3,W4)。相对相位(ΔΦ12,ΔΦ34)被确定,在该相对相位处,声学膜(1,2,4,5)被致动以在声波(W1,W2,W3,W4)之间生成预定的干涉图案(C)。兰姆波(Ws)的兰姆波长(λs)被确定,该兰姆波在谐振频率(Fr)下穿过邻近声学膜(1,2;3,4)之间的箔(10)的中间部分(10i,10j)。布局中的邻近声学膜(1,2;3,4)之间的中间部分(10i,10j)的距离(X12,X34)是根据相对相位(ΔΦ12,ΔΦ34)和兰姆波长(λs)来确定的,以使得通过声学膜(1,3)产生的兰姆波(Ws)与邻近的声学膜(2,4)同相到达。
搜索关键词: 声学 阵列 优化
【主权项】:
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