[发明专利]声学膜阵列的优化在审
申请号: | 202080060498.4 | 申请日: | 2020-08-27 |
公开(公告)号: | CN114342417A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 希尔克·布勒·阿克曼;保罗·路易斯·玛莉亚·约瑟夫·万妮尔;阿尔诺·威廉·弗雷德里克·佛尔克 | 申请(专利权)人: | 荷兰应用自然科学研究组织TNO |
主分类号: | H04R7/12 | 分类号: | H04R7/12;H04R7/14;H04R9/02 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 孟媛;李维凤 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种声学装置(100),该声学装置包括形成在箔(10)上的声学膜(1,2,3,4)的阵列。声学膜(1,2,3,4)中的每一个被配置为在声学膜(1,2,3,4)的谐振频率(Fr)下进行振动,以产生相应的声波(W1,W2,W3,W4)。相对相位(ΔΦ12,ΔΦ34)被确定,在该相对相位处,声学膜(1,2,4,5)被致动以在声波(W1,W2,W3,W4)之间生成预定的干涉图案(C)。兰姆波(Ws)的兰姆波长(λs)被确定,该兰姆波在谐振频率(Fr)下穿过邻近声学膜(1,2;3,4)之间的箔(10)的中间部分(10i,10j)。布局中的邻近声学膜(1,2;3,4)之间的中间部分(10i,10j)的距离(X12,X34)是根据相对相位(ΔΦ12,ΔΦ34)和兰姆波长(λs)来确定的,以使得通过声学膜(1,3)产生的兰姆波(Ws)与邻近的声学膜(2,4)同相到达。 | ||
搜索关键词: | 声学 阵列 优化 | ||
【主权项】:
暂无信息
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