[发明专利]流体处置系统和光刻设备在审
| 申请号： | 202080064265.1 | 申请日： | 2020-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN114402263A | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | T·W·波莱;K·斯蒂芬斯;R·范德含;G·彼得斯;E·H·E·C·奥姆梅伦;F·法尼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 流体处置系统，用于润湿衬底的表面的由辐射束照射的区域。所述流体处置系统包括第一装置(112)，其被配置成将第一液体限制在该第一装置的至少一部分与衬底的表面之间的第一空间(111)中。该第一装置包括形成在其中的孔(10)以供使所述辐射束(B)传递通过以穿过第一液体照射该区域。该第一装置包括被配置成向第一空间提供第一液体的至少一个第一液体供应构件(20，23，34)、和被配置成从第一空间移除液体的至少一个提取构件(32)。流体处置系统还包括第二装置(200)，其包括被配置成向该第二装置的至少一部分与衬底的表面之间的第二空间(211)提供第二液体的至少一个第二液体供应构件(201)，其中在衬底的表面上在第二液体与第一液体之间存在间隙。流体处置系统被配置成向第二空间提供第二液体而不从第二空间移除任何液体以至少在该区域上形成液体层，且被配置成将第一液体和第二液体同时提供于衬底的表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 处置 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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