[发明专利]导电性构件、其制造方法、处理盒以及电子照相图像形成设备有效
申请号: | 202080072915.7 | 申请日: | 2020-10-09 |
公开(公告)号: | CN114556231B | 公开(公告)日: | 2023-06-27 |
发明(设计)人: | 植松敦;古川匠;平松隆 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G15/02 | 分类号: | G03G15/02;G03G15/16;C08K3/04;C08L21/00 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
提供一种即使在高速化的主体中也能够抑制重影的产生并且提供高品质图像的导电性构件。所述导电性构件具有导电性支承体和导电层。所述导电层具有包括第1橡胶的交联产物的基质和分散在所述基质中的多个域。所述域各自包括第2橡胶的交联产物和导电性颗粒。所述导电性构件的外表面具有多个凹部,并且至少一部分所述域的表面在所述凹部的底部露出所述导电性构件的外表面。所述基质的体积电阻率大于1.0×10 |
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搜索关键词: | 导电性 构件 制造 方法 处理 以及 电子 照相 图像 形成 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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