[发明专利]光学设备在审
| 申请号： | 202080074431.6 | 申请日： | 2020-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN114600004A | 公开（公告）日： | 2022-06-07 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·肯普费;洛朗·迪博斯特;X·塞达奥 | 申请（专利权）人： | 流体力学与摩擦公司;让·莫奈圣埃蒂安大学;曼努科技-USD公司;国家科学研究中心 |
| 主分类号： | G02B1/12 | 分类号： | G02B1/12;G02B1/118;G02B5/20 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 易皎鹤 |
| 地址： | 法国昂德雷*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种光学设备(1)，适于透射/反射电磁谱的波长范围内的电磁辐射，所述设备(1)至少包括：第一涂层(10)，其由第一材料制成；衬底(50)，其由不同于第一材料的材料制成；和表面纹理化(60)，其在设备(1)中形成空腔(61)；其中，布置在第一涂层(10)正下方的下层(50)是由与第一材料不同的材料制成的第二涂层(20)或衬底(50)；其中，下层(50)具有预定厚度(E50)；其特征在于，空腔(61)延伸穿过涂层(20)并且穿过厚度(E50)的至少一部分沉入下层(50)中。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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