[发明专利]无电容DRAM单元在审

专利信息
申请号: 202080083660.4 申请日: 2020-11-17
公开(公告)号: CN114762116A 公开(公告)日: 2022-07-15
发明(设计)人: C·佐塔;C·康维蒂诺;L·克佐诺玛兹;S·卡格 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 李兴斌
地址: 美国纽*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种无电容DRAM单元(200)包括异质结构、在第一方向上邻接该异质结构的栅极结构(106、107)、在垂直于该第一方向的第二方向上邻接该异质结构的漏极结构(108)、以及在与该第二方向相反的方向上邻接该异质结构的源极结构(104),该异质结构包括一个或多个半导体的沟道层(610、612)和一个或多个电绝缘的阻挡层(620、622、624),该沟道层(610、612)和该阻挡层(620、622、624)在该第一方向上交替地堆叠。
搜索关键词: 电容 dram 单元
【主权项】:
暂无信息
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