[发明专利]处理液、图案形成方法在审
| 申请号： | 202080084911.0 | 申请日： | 2020-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN114787717A | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 土桥彻;高桥智美;清水哲也 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;C08F220/28;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种处理液，当所述处理液使用于抗蚀剂膜的显影和清洗中的至少一种处理时，解析性优异、薄膜化抑制性优异且残渣抑制性优异。并且，提供一种有关上述处理液的图案形成方法。本发明的处理液是一种用于对由感光化射线或感放射线性组合物获得的抗蚀剂膜进行显影和清洗中的至少一种处理且包含有机溶剂的抗蚀剂膜图案化用处理液，所述处理液包含满足规定条件的第一有机溶剂、满足规定条件的第二有机溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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