[发明专利]曝光光敏涂层之方法及装置在审
| 申请号： | 202080102021.8 | 申请日： | 2020-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN115698858A | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | B·塔尔纳;B·波瓦扎;T·曾格;T·乌赫曼 | 申请（专利权）人： | EV集团E·索尔纳有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/095 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 梁冰;郭帆扬 |
| 地址： | 奥地利圣*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明系关于一种用于曝光一光敏涂层之方法及装置。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 光敏 涂层 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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