[发明专利]真空处理装置及真空处理方法在审
| 申请号： | 202080107179.4 | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN116438621A | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | 田之口亮斗;坪内宏树;生方孝男 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | H01J37/18 | 分类号： | H01J37/18 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;范胜杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种真空处理装置以及真空处理方法，在2个真空腔室之间搬送试样时，能够抑制搬送目的地的真空腔室中的真空度的恶化。因此，控制装置(30)控制晶圆(600)从LC(102)经由LC‑SC间闸阀(510)向SC(101)的搬送。此时，控制装置(30)在将LC‑SC间闸阀(510)控制为关闭状态的基础上，停止进行了第一时间的基于TMP(401A)的真空排气，在停止了真空排气的状态下使用压力计(103)测定LC(102)的内压，在该测定出的内压达到第一基准值的情况下，将LC‑SC间闸阀(510)控制为打开状态。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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