[发明专利]纳米厚度半导体薄膜异质结层间电荷转移的光学探测方法在审

专利信息
申请号: 202110002364.3 申请日: 2021-01-04
公开(公告)号: CN112881509A 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 何大伟;姚鹏;王永生 申请(专利权)人: 北京交通大学
主分类号: G01N27/64 分类号: G01N27/64
代理公司: 北京卫平智业专利代理事务所(普通合伙) 11392 代理人: 张新利;谢建玲
地址: 100044*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于飞秒激光光谱学技术领域,涉及一种纳米厚度半导体薄膜异质结层间电荷转移的光学探测方法,包括:基频脉冲光入射到半导体薄膜异质结样品;激发半导体薄膜异质结,产生层间空间电场;层间空间电场诱导产生场致二次谐波;探测半导体薄膜异质结的场致二次谐波,实现了飞秒‑纳秒时间尺度内载流子输运过程的探测。具有及时响应的特性和极高的时间分辨率,同时不需要镀电极,且具有非接触的特点,保留了材料自身的固有性质,并实现纳米级的空间分辨率和可定位的特性。首次实现了利用光信号去探测电信号,同时具有极高的时间分辨率和空间分辨率。
搜索关键词: 纳米 厚度 半导体 薄膜 异质结层间 电荷 转移 光学 探测 方法
【主权项】:
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