[发明专利]液体喷射装置和液体喷射装置的维护方法在审
申请号: | 202110003854.5 | 申请日: | 2021-01-04 |
公开(公告)号: | CN113147179A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 小林悟;木村仁俊 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B41J2/01 | 分类号: | B41J2/01;B41J2/165 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 李丹 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供一种液体喷射装置和液体喷射装置的维护方法,容易维持液体喷射部的良好的喷射状态。具备:液体喷射部,能够从喷嘴喷射第一液体;液体接收部,能够在积留有第二液体的状态下,接收以维护液体喷射部为目的而从喷嘴排出的第一液体;以及排出部,能够排出积留于液体接收部的液体,液体接收部具有:储液部,积留第二液体;维持部,将积留于储液部的液体的液面维持在比排出部从储液部排出液体的排出口靠向上方的上限位置;以及唇部,能够与液体喷射部接触,液体接收部能够使唇部与液体喷射部接触而对包括喷嘴的空间进行封盖。 | ||
搜索关键词: | 液体 喷射 装置 维护 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110003854.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体结构及其形成方法
- 下一篇:一种掩味缓释替米考星预混剂的制备方法