[发明专利]熔石英光学元件表面缺陷的增材修复方法及装置有效
| 申请号： | 202110006705.4 | 申请日： | 2021-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN112759276B | 公开（公告）日： | 2022-08-09 |
| 发明（设计）人： | 周丽;姜有恩;任志远;李学春;朱健强 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | C03C17/02 | 分类号： | C03C17/02 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种熔石英光学元件表面缺陷的增材修复方法及装置，所述方法首先全部清除熔石英光学元件表面缺陷及其周围受影响区域的材料，然后以二氧化碳激光为热源，采用化学气相沉积的方法在缺陷清除后留下的凹坑内高精度沉积新的熔石英材料来填充凹坑至熔石英元件表面平整并原位进行激光退火。本发明通过激光化学气相沉积和激光退火进行熔石英元件表面缺陷的增材修复，确保了缺陷修复后表面光滑平整，大大提高了熔石英光学元件的抗损伤能力。并且，该方法具有位置精度高、沉积量可控、速度快的特点，能够有选择性地修复表面的缺陷点而不对元件其他区域造成破坏，适用于划痕、杂质、裂纹、损伤点等任意种类缺陷的修复。 | ||
| 搜索关键词： | 石英 光学 元件 表面 缺陷 修复 方法 装置 | ||
【主权项】：
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