[发明专利]一种基于射频偏转腔技术的质子束流立体角分配装置有效
| 申请号： | 202110007647.7 | 申请日： | 2021-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN112870560B | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 方文程;赵振堂;谭建豪;黄晓霞;肖诚成 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海高等研究院 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 邓琪 |
| 地址： | 201210 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于射频偏转腔技术的质子束流立体角分配装置，包括：功率源系统、与之连接的射频结构系统、低电平系统；射频结构系统包括波导结构和射频偏转结构，射频偏转结构具备两个独立且正交的极化方向，对质子束流提供两个独立正交的横向偏转力，使质子束流偏转一立体角；低电平系统独立控制功率源系统的功率水平，使质子束流以不同的立体角发射。本发明的装置通过具有彼此正交的极化方向的射频偏转结构，实现任意立体角度偏转；且射频偏转结构和低电平系统相结合，使得偏转效果的响应时间与低电平系统相关，可利用低电平系统快速改变脉冲微波功率的输出功率，经过两个正交横向偏转力的矢量叠加，实现质子束流任意角度的快速变换。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 射频 偏转 技术 质子 立体角 分配 装置 | ||
【主权项】：
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