[发明专利]一种聚焦离子束加工曲面结构灰度图计算方法及系统在审
| 申请号： | 202110015320.4 | 申请日： | 2021-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN112784372A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 幸研;韩添 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | G06F30/17 | 分类号： | G06F30/17;G06F30/27;G06N3/12 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 郝雅洁 |
| 地址： | 210000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种聚焦离子束加工曲面结构灰度图计算方法及系统，首先建立利用传统灰度图加工曲面结构对应的误差通式，然后建立了基于连续元胞自动机的聚焦离子束灰度工艺溅射刻蚀模拟优化系统，误差通式作为初始离子剂量轮廓的补偿量得到优化后的离子剂量轮廓，输入到模拟优化系统中。通过仿真轮廓与设计轮廓的对比，得到轮廓误差，利用遗传算法对误差通式中的自适应参数进行反复筛选，最后系统输出的最佳的离子剂量轮廓，并将其转化为对应的灰度图。本发明提出的加工误差通式，能够对出现的轮廓误差进行普遍意义上的补偿，具有成本低、效率高的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 聚焦 离子束 加工 曲面 结构 灰度 计算方法 系统 | ||
【主权项】：
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