[发明专利]一种双断口自均压真空灭弧室在审

专利信息
申请号: 202110015349.2 申请日: 2021-01-07
公开(公告)号: CN112786346A 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 葛国伟;程显;杜帅;田小倩;李鑫;陈辉 申请(专利权)人: 郑州大学
主分类号: H01H33/662 分类号: H01H33/662;H01H33/664
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 450001 河南省郑*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 本发明公开了一种自均压双断口真空灭弧室,两个商用真空灭弧室静端盖通过中间法兰连接,中间法兰连接中间屏蔽罩,上下侧真空灭弧室动端盖处分别连接上下端外部屏蔽罩,在上、下端外部屏蔽罩与中间屏蔽罩之间并联两个圆筒形陶瓷电容器,其内外表面为电极,作为上下端真空灭弧室的均压电容,实现断口间均压控制,上述圆筒形陶瓷电容器通过固体绝缘固定于外部屏蔽罩和中间屏蔽罩之间,屏蔽罩可以有效改善外部电场分布均匀性,减小断口对地杂散电容,实现比传统外部并联均压电容更好的均压效果。在上下端外部屏蔽罩分布有通气孔,便于罐式断路器中绝缘气体流入,提高内部耐压水平,同样达到对流散热效果。该发明专利具有结构简单、体积小、均压效果好等优点,作为紧凑型超特高压罐式多断口真空断路器的基本单元,为后期更高电压等级断路器奠定了基础。
搜索关键词: 一种 断口 真空 灭弧室
【主权项】:
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