[发明专利]一种银金属薄膜层蚀刻液及其制备、应用有效
申请号: | 202110022572.X | 申请日: | 2021-01-08 |
公开(公告)号: | CN112852429B | 公开(公告)日: | 2022-09-09 |
发明(设计)人: | 冯卫文;王芳;侯倩;张靖伟 | 申请(专利权)人: | 绵阳艾萨斯电子材料有限公司 |
主分类号: | C09K13/06 | 分类号: | C09K13/06 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 唐邦英 |
地址: | 621000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种银金属薄膜层蚀刻液及其制备、应用,银金属薄膜层蚀刻液包括以下质量百分比组分:磷酸55%,醋酸15%,硝酸5‑6.5%,醋酸盐0.7‑1%,亚氨基类0.1‑0.2%,咪唑啉类衍生物0.1‑0.2%,余量为水。发明通过在蚀刻液中同时添加一定比例的醋酸、醋酸和咪唑啉类衍生物,有效的解决药液酸度过高而导致的过刻蚀、刻蚀不均匀、银回粘现象、小黑点的缺陷等问题,使药液性能更稳定、使用寿命更长、药液兼容性更强,蚀刻良率更高。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 薄膜 蚀刻 及其 制备 应用 | ||
【主权项】:
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