[发明专利]注入器在审
申请号: | 202110022741.X | 申请日: | 2021-01-08 |
公开(公告)号: | CN113088931A | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | C.G.M.德里德;K.P.布恩斯特拉;T.G.M.奥斯特拉肯 | 申请(专利权)人: | ASMIP私人控股有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种注入器,被构造成放置在批处理炉组件的处理室,用于将气体注入到所述处理室中。注入器具有包围注入室的细长的管状壳体。壳体具有:气体入口,用于将气体从气体源供应到注入室;至少一个气体供应口,用于将气体从注入室供应到处理室;和周向壁,在壳体的纵向方向上延伸。周向壁包括第一侧壁半部和第二侧壁半部。两个侧壁半部在纵向方向上基本上跨壳体的长度。第一侧壁半部和第二侧壁半部通过机械紧固彼此紧固。 | ||
搜索关键词: | 注入 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的