[发明专利]一种基于异常合成与分解的纹理表面缺陷检测方法与系统有效
| 申请号： | 202110033380.9 | 申请日： | 2021-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN112700432B | 公开（公告）日： | 2022-07-05 |
| 发明（设计）人： | 杨华;宋开友;尹周平;侯岳 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06T7/11;G06V10/77;G06V10/82;G06K9/62;G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于异常合成与分解的纹理表面缺陷检测方法和系统，属于图像处理领域。本发明构建分割引导的缺陷生成网络，可利用少量真实缺陷训练样本生成大量与真实缺陷相似的缺陷样本，同时提出基于高斯采样的异常合成方法可利用无缺陷正样本随机合成异常负样本，可解决工业中缺陷样本量少的难题，进而提高缺陷检测精度；本发明通过采用异常分解网络来将异常负样本分解为纹理背景图像与异常掩膜图像，可有效抑制缺陷被重构到纹理背景中，提高纹理背景重构精度，并可精确分割缺陷区域，将残差图像与异常分割图像融合，进而提高缺陷检出率、降低缺陷过检率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 异常 合成 分解 纹理 表面 缺陷 检测 方法 系统 | ||
【主权项】：
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