[发明专利]用于电光介质的聚合物制剂在审

专利信息
申请号: 202110034716.3 申请日: 2016-07-22
公开(公告)号: CN112859476A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: P·C·B·威吉;L·A·麦库拉芙;R·J·德维特;R·J·小保利尼;T·福韦尔;J·K·阮 申请(专利权)人: 伊英克公司
主分类号: G02F1/1675 分类号: G02F1/1675;G02F1/167;C09J9/02;C09J175/14
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 郭广迅
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 包含聚氨酯丙烯酸酯、粘合促进剂和导电单体的聚合物制剂。通过选择合适的导电单体,能够获得在25℃和50%的相对湿度下适应一周后具有106至1010Ohm·cm的体积电阻率的制剂。这样的制剂适合加入电光材料中,如电光显示器或可变透射膜,例如用于建筑应用。在其他实施方案中,所述制剂另外包含金属氧化物纳米颗粒以改变折射率和/或电导率。某些金属纳米颗粒的添加另外促进了使用X‑射线荧光光谱无损测量层厚度。
搜索关键词: 用于 电光 介质 聚合物 制剂
【主权项】:
暂无信息
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