[发明专利]曝光装置和物品的制造方法在审
| 申请号： | 202110037169.4 | 申请日： | 2021-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN113126448A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 井上充;伊藤敦史 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 孙蕾 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种曝光装置和物品的制造方法。提供一种有利于精度良好地测量投影光学系统的光学特性的技术。一种用于对基板进行曝光的曝光装置包括：投影光学系统，利用曝光的光将原版的图案像投影到所述基板；测量部，使用经由所述曝光的光要经由的所述投影光学系统的光学元件而从所述投影光学系统射出的测量光，测量所述投影光学系统的光学特性；以及控制部，基于所述测量部的测量结果，修正所述曝光的光在所述基板上的照射位置，所述测量部包括接受所述测量光的受光元件，所述受光元件被安装于所述投影光学系统。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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