[发明专利]单元透镜和透镜阵列的横向位置误差二维度量方法有效
| 申请号： | 202110037263.X | 申请日： | 2021-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN112887700B | 公开（公告）日： | 2022-12-02 |
| 发明（设计）人： | 闫兴鹏;毛岩;王维锋;蒋晓瑜;荆涛;刘云鹏;王晨卿 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军陆军装甲兵学院 |
| 主分类号： | H04N13/30 | 分类号： | H04N13/30;H04N13/363 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 杨媛媛 |
| 地址： | 100072*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种单元透镜和透镜阵列的横向位置误差二维度量方法，涉及集成成像领域，通过单元透镜与显示平面、投影平面之间的距离，以及单元透镜实际光心位置与理想光心位置的横向距离，计算单元透镜横向位置误差，为单元透镜横向位置误差的度量与校正提供了依据。扩展到透镜阵列，通过引入相邻单元透镜的横向距离，三条重构光线在显示平面的像素位置与对应透镜实际光心位置的横向距离，可得其中两两重构光线相交的实际位置，并通过交点位置，计算出散斑面积大小，从而为透镜阵列横向位置误差的度量与校正提供了依据。 | ||
| 搜索关键词： | 单元 透镜 阵列 横向 位置 误差 二维 度量 方法 | ||
【主权项】：
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