[发明专利]一种同时制备氢氧化铝薄膜和高纯石墨烯的方法在审

专利信息
申请号: 202110037864.0 申请日: 2021-01-12
公开(公告)号: CN112877717A 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 邓信忠;王晓民;梁海;薛志爽;郭丽莉 申请(专利权)人: 营口理工学院
主分类号: C25B1/135 分类号: C25B1/135;C25B1/01;C25D9/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 115000 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种同时制备氢氧化铝薄膜和高纯石墨烯的方法,包括如下步骤:(1)配置电解溶液A和电解溶液B;(2)用相应的电极材料和隔膜组装直流电解装置;(3)通直流电进行恒电压电解;(4)取出阴极电极获得氢氧化铝薄膜;(5)超声分散阳极产品;(6)静置分层获得阳极产品;(7)冷冻干燥阳极产品沉淀,获得产品高纯石墨烯。本发明提出的一种同时制备氢氧化铝薄膜和高纯石墨烯的方法,解决了在同一个装置内同时生产出氢氧化铝薄膜和高纯石墨烯的问题,提高生产过程的电能利用率,降低了生产成本,并且工艺简单、装置容易加工,适合于工业化大规模生产。
搜索关键词: 一种 同时 制备 氢氧化铝 薄膜 高纯 石墨 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于营口理工学院,未经营口理工学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110037864.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top