[发明专利]一种纳米尺度的片上相位奇点调控方法在审

专利信息
申请号: 202110038124.9 申请日: 2021-01-12
公开(公告)号: CN112817140A 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 刘厚权;解正浩;苑立波 申请(专利权)人: 桂林电子科技大学
主分类号: G02B26/06 分类号: G02B26/06;G02B5/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 541004 广西*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明提供的是一种纳米尺度的片上相位奇点调控方法。其特征是:实现一种纳米尺度的片上相位奇点调控方法的器件结构包括激光器1,空间光调制器2,计算机3,起偏器4‑1,1/4波片4‑2,物镜5,衬底6,纳米金属膜7,环形纳米槽8以及纳米探针9。激光器1出射的光束经空间光调制器2变换后转变成涡旋光,该涡旋光随后通过起偏器4‑1,1/4波片4‑2,物镜5垂直入射到衬底6,在纳米环形槽8处激发表面等离极化激元(SPPs),SPPs在纳米金属膜7表面传递形成电场分布。利用纳米探针9可测量SPPs的强度分布和相位分布。通过计算机3调控空间光调制器2反射光束射入衬底6的横向位置,可在纳米金属膜7表面获得相位奇点并能实现对相位奇点的连续、高精度调控。
搜索关键词: 一种 纳米 尺度 相位 奇点 调控 方法
【主权项】:
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