[发明专利]一种防循环液泄漏的静电吸附盘在审
| 申请号： | 202110038214.8 | 申请日： | 2021-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN112736011A | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 许文泽;邱勇 | 申请（专利权）人： | 上海谙邦半导体设备有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;H01L21/67 |
| 代理公司： | 成都顶峰专利事务所(普通合伙) 51224 | 代理人： | 杨国瑞 |
| 地址： | 200000 上海市自由贸*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及晶圆工艺设备领域，公开了一种防循环液泄漏的静电吸附盘，即在底面循环液通口处嵌装有嵌入式板状阀体、阀片和阀片推进控制器，可在移除静电吸附盘前，通过所述阀片推进控制器驱动所述阀片伸入所述循环液通孔并截止所述循环液通孔，使得在后续移除过程中残留在所述静电吸附盘内部管道中的循环液不会经过所述循环液通口滴落出来，实现防循环液泄漏的目的，最终不但可大幅度减少移除后的污物擦拭动作和移除吸附盘的所需时间，提升更换效率，还可以避免升高在设备周围空气中总挥发性有机物的浓度，减少有机物过滤器的部署成本和更换成本，延长过滤器的维护周期，以及可有效阻止金属损失缺陷的增加，保障最终晶圆制品的高良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 循环 泄漏 静电 吸附 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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