[发明专利]一种光刻机对准标记制作方法在审
| 申请号： | 202110038886.9 | 申请日： | 2021-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN112666806A | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 方小磊;陈涛;刘耀聪;张凯;蔡雨杉;李天成 | 申请（专利权）人： | 长春长光圆辰微电子技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;H01L21/67;H01L27/146 |
| 代理公司： | 长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙) 22218 | 代理人： | 高一明;郭婷 |
| 地址： | 130000 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体芯片加工制造领域。本发明提供一种背照式图像传感器的光刻机对准标记制作方法，在键合前的两片晶圆上通过任意光刻机分别制作红外对准标记；在键合、减薄后，通过红外光刻机找到存在于两片晶圆中的红外对准标记，利用此红外对准标记在减薄后的晶圆表面制作专用光刻机标记。通过制作红外光刻机对准标记，实现了背照式图像传感器在键合、减薄后的精确对准，从而可以在减薄后的晶圆上直接制作后层对准标记，进而后续结构的对准和光刻可以使用任意一种光刻机完成。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 对准 标记 制作方法 | ||
【主权项】：
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