[发明专利]一种基于散斑结构光的微电子基板翘曲测量方法和系统有效
| 申请号： | 202110053679.0 | 申请日： | 2021-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN112857244B | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 朱福龙;曾宝山;沈奔;李金洺;胡洲;胡剑雄;冯陈泽芳;王淼操;黄煜华 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G01B11/16 | 分类号： | G01B11/16;G01J5/00 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 石梦雅;李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于微电子封装检测分析领域，并具体公开了一种基于散斑结构光的微电子基板翘曲测量方法和系统。该方法具体为：对载物台的参考平面投影散斑图案并带动其上升，以此采集一系列参考图像；载物台归位，将待测微电子基板放置在载物台上加热并投影散斑图案，以此采集变形图像；将变形图像和参考图像进行匹配，选定最接近变形图像偏移值的参考图像为分析图像，进一步求得变形图像精确的整像素和亚像素偏移值，从而获得散斑的实际偏移值，并利用其计算该散斑所在处的面外位移；重复上述步骤，以此得到待测微电子基板的全场面外位移。该方法将散斑投影应用于微电子基板翘曲测量中，不需要制样，最大程度还原了试样表面的真实形貌。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 结构 微电子 基板翘曲 测量方法 系统 | ||
【主权项】：
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