[发明专利]一种降低卤化物熔盐中氧含量的方法有效

专利信息
申请号: 202110055209.8 申请日: 2021-01-15
公开(公告)号: CN112891973B 公开(公告)日: 2022-09-13
发明(设计)人: 耿俊霞;窦强;付海英;李晴暖 申请(专利权)人: 中国科学院上海应用物理研究所
主分类号: B01D3/10 分类号: B01D3/10;B01D3/42;C01B9/02;C01B9/04;C01B9/06;C01B9/08
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 王卫彬;邹玲
地址: 201800 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种降低卤化物熔盐中氧含量的方法。该方法包括下述步骤:在真空条件下,对卤化物熔盐进行蒸馏处理;其中,真空条件的真空度为10‑5~103Pa;蒸馏处理中,蒸馏温度高于冷凝温度至少200℃,蒸馏温度为400~1200℃。本发明中降低卤化物熔盐中氧含量的方法可有效降低卤化物熔盐中70%以上的氧含量;处理后的蒸馏产物中氧含量可低至560mg/Kg以下,甚至可低至200mg/Kg以下;且处理效率高,对设备腐蚀性较弱。
搜索关键词: 一种 降低 卤化物 熔盐中氧 含量 方法
【主权项】:
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