[发明专利]一种靶材安装结构、磁控溅射设备及磁控溅射方法有效
| 申请号： | 202110058551.3 | 申请日： | 2021-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN112899627B | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 卢静 | 申请（专利权）人： | 重庆电子工程职业学院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 重庆志一加诚专利代理事务所(普通合伙) 50278 | 代理人： | 邓波 |
| 地址： | 400000*** | 国省代码： | 重庆;50 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种靶材安装结构、磁控溅射设备及其磁控溅射方法，解决了现有的靶材散热差、使用寿命短的技术问题。本发明包括靶材和背板，所述靶材安装在背板的一侧，其特征在于，所述背板内部设置有散热组件，所述散热组件包括冷却水管和射吸组件，所述冷却水管靠近靶材侧，所述射吸组件位于远离所述靶材，所述冷却水管与射吸组件连接。本发明具有散热效果好，靶材寿命长，冷却水不易掉入真空腔等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 安装 结构 磁控溅射 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆电子工程职业学院，未经重庆电子工程职业学院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110058551.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
