[发明专利]一种高功函数金属核壳纳米线及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202110058924.7 | 申请日： | 2021-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN112893861A | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | 杨巍;方晓生 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | B22F9/24 | 分类号： | B22F9/24;B22F1/02;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 陆飞;陆尤 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于电子信息技术领域，具体为一种高功函数金属核壳纳米线及其制备方法和应用。本发明制备方法包括高功函数壳层材料包覆，壳层材料掺杂等；通过高功函数壳层材料来提高纳米线的功函数；通过水合肼还原反应，实现在纳米线表面均匀的壳层材料包覆；通过引入铜掺杂改善镍壳层表面氧化带来的导电性下降问题；通过PVP钝化和反应条件控制，保证壳层材料较高的结晶度和电性能。制备得到的银‑镍铜核壳纳米线材料，其功函数显著提高，有助于解决光电器件和柔性电子器件构筑时的功函数失配问题；耐热性能显著提升，并改善电学性能；透明导电性接近银纳米线水平，并与溶液成膜工艺相适应，因而能满足光电器件和柔性电子器件的性能需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 函数 金属 纳米 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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