[发明专利]多模式近场装置在审
| 申请号： | 202110059343.5 | 申请日： | 2021-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN113141200A | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 安东尼·凯斯拉斯;莉斯贝思·戈麦 | 申请（专利权）人： | 恩智浦有限公司 |
| 主分类号： | H04B5/00 | 分类号： | H04B5/00;H04B5/02;H04B17/318 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李敬文 |
| 地址： | 荷兰埃因霍温高科*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一个例子公开了一种被配置成耦合到导电主体表面的多模式近场装置，包括：导电天线表面，所述导电天线表面被配置为近场电感应(NFEI)天线；其中所述导电天线表面包括第一区和第二区；其中所述第一区被配置成电容耦合到所述导电主体表面；其中所述第二区被配置成电耦合或电容耦合到所述导电主体表面；其中所述多模式装置被配置成在以下模式下操作，当所述第二区电耦合到所述导电主体表面时，第一模式；以及当所述第二区电容耦合到所述导电主体表面时，第二模式。 | ||
| 搜索关键词： | 模式 近场 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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