[发明专利]一种低散射目标的RCS成像测量装置及测量方法在审
申请号: | 202110061433.8 | 申请日: | 2021-01-18 |
公开(公告)号: | CN112859076A | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 刘峥;邵单元;谢荣;高伟奇;冉磊 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | G01S13/90 | 分类号: | G01S13/90;G01S7/41 |
代理公司: | 西安睿通知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 61218 | 代理人: | 惠文轩 |
地址: | 710071 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种低散射目标的RCS成像测量装置及测量方法,装置包括:矢量网络分析仪、收发天线组件、横向滑动组件、定标体、测量支架和测控计算机;矢量网络分析仪包含两个发射端口和两个接收端口;收发天线组件包含发射天线、接收天线和天线支架,两个发射端口通过射频电缆与双极化发射天线连接,两个接收端口通过电缆与接收天线连接;天线支架安装于横向滑动组件上,使天线能随水平移动;横向滑动组件的移动距离为合成孔径长度。测量支架用于放置定标体和待测目标。本发明利用四端口矢量网络分析仪和双极化天线组件,可实现雷达目标的极化RCS成像测量。 | ||
搜索关键词: | 一种 散射 目标 rcs 成像 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】:
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