[发明专利]2.5D封装结构及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202110061966.6 申请日: 2021-01-18
公开(公告)号: CN112908867A 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 刘军;曹立强;徐成;孙鹏;耿菲 申请(专利权)人: 上海先方半导体有限公司;华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;H01L21/768;H01L23/31;H01L23/48;H01L23/552
代理公司: 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 代理人: 张东梅
地址: 200000 上海市浦东新区自*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种2.5D封装结构及其制作方法,包括:制备硅转接板,在所述硅转接板的正面形成第一电性引出结构;通过第一电性引出结构进行晶圆级倒装贴片;在所述硅转接板的正面进行晶圆塑封工艺,形成塑封层;减薄塑封层,以使所述硅转接板厚度均匀;在对应的晶圆切割道位置切割所述塑封层,直到暴露出所述硅转接板的正面为止;通过金属溅射工艺或电镀工艺,在塑封层的表面形成电磁屏蔽层;通过临时键合工艺,在硅转接板的背面形成第二电性引出结构;切割所述硅转接板形成多个芯片封装体;将所述芯片封装体通过第二电性引出结构附连至基板。
搜索关键词: 2.5 封装 结构 及其 制作方法
【主权项】:
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