[发明专利]测量拓扑绝缘体Bi2Te3中拉莫进动引起的磁致光电流的方法有效

专利信息
申请号: 202110065501.8 申请日: 2021-01-18
公开(公告)号: CN112881773B 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 俞金玲;陈神忠;程树英;赖云锋;郑巧 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: G01R15/24 分类号: G01R15/24;G01R19/00
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 陈明鑫;蔡学俊
地址: 350108 福建省福州市*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种测量拓扑绝缘体Bi2Te3中拉莫进动引起的磁致光电流的方法。该方法是对三维拓扑绝缘体Bi2Te3施加一个平面内沿x方向的磁场,用1064nm的激光垂直照射(沿z方向)在样品上两电极连线的中点上,激发产生磁致光电流。通过转动四分之一波片获得不同偏振状态下的光电流,然后通过公式拟合得到圆偏振光激发由拉莫进动引起的磁致光电流。其原理为,圆偏振光激发产生垂直方向的自旋极化Sz,x方向的磁场使得拓扑绝缘体中产生的自旋极化Sz产生拉莫进动,从而产生y方向的自旋极化Sy。这个方向的自旋极化将会引起x方向流动的电荷流,即由拉莫进动引起的圆偏振磁致电流。
搜索关键词: 测量 拓扑 绝缘体 bi2te3 中拉莫进动 引起 磁致光 电流 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福州大学,未经福州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110065501.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top