[发明专利]一种石墨烯插层二硫化钼复合材料的制备及应用方法有效

专利信息
申请号: 202110069197.4 申请日: 2021-01-19
公开(公告)号: CN112875754B 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 刘永畅;李平;李省伟;曲选辉 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: C01G39/06 分类号: C01G39/06;C01B32/184;H01M4/58;H01M4/62;H01M10/36;B82Y40/00;B82Y30/00
代理公司: 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 代理人: 张仲波
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种石墨烯插层二硫化钼复合材料的制备及应用方法。将商用二硫化钼浸泡在正丁基锂溶液中,氩气环境下搅拌,清洗,干燥,得到硫化钼锂,加水剧烈反应得到剥离二硫化钼分散液A。在A溶液中加入阳离子表面活性剂,单层氧化石墨烯分散液,二硫化钼层与氧化石墨烯层互相吸附;加入还原剂,水热处理,氧化石墨烯还原为石墨烯且伴随石墨烯嵌入二硫化钼层间;清洗,冷冻干燥,得到石墨烯插层二硫化钼复合材料。本发明的优点是:重复性好、反应条件易于控制。所得材料呈现“三明治”结构复合纳米片组装成的微米花,纳米片厚度为10‑20nm,二硫化钼层间距扩大为1.16nm,亲水性良好,有利于水合锌离子的快速、稳定脱嵌,使得储锌容量,倍率性能和循环稳定性得到显著提升。
搜索关键词: 一种 石墨 烯插层 二硫化钼 复合材料 制备 应用 方法
【主权项】:
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